ポジパターン形成 ネガパターン形成 有機溶剤現像 238% tmah aq n oh酢酸 nブチル o o 画像が反転! o o o oh h 遮光部 露光部 <逆転の発想②> 現像液の性質を逆にすれば、ポジ型レジストがネガ型レジストに変化する!はポジ・右はネガ、(4)最下段:レジスト・マスク を介してSiO2 のエッチング・パタン転写 図65 現像後のレジストパタン電子顕微鏡写真(a) 幅10μm のラインパタン、(b)幅015μm のライン パタン 51 は非溶解性を促進する。ポジ型レジストのPAC はDNQ(diazonaphthoquinone)、ネガ型レ ジストポジ型レジスト ネガ型レジスト 露光 光のあたった部分が 残る t o kの基幹技術 フォトリソグラフィとは 配線の形成 ウエハに集積 回路が完成 lsiの完成 不純物拡散剤を塗布した後、高温で焼成する ことにより、半導体領域を形成します。 これらの工程を繰り返すことによって、 様々な回路を
ポジフィルムとは ネガフィルムとの違いや楽しみ方を紹介 思い出レスキュー 写真プリントはカメラのキタムラ